ОСНОВНОЕ НАПРАВЛЕНИЕ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ:

Разработка, исследование и изготовление мощных полупроводниковых лазеров, излучающих в диапазоне длин волн 650 - 2000 нм .    

Виды изготавливаемых полупроводниковых лазеров:

Одномодовые Фабри-Перо лазеры:

Диапазон длин волн:     1000 – 2000 нм

Излучаемая рабочая мощность:  до 200 мВт

Типы корпусов:

ТО-18 (5,6 мм), SOT-148 (9 мм), открытый теплоотвод



Многомодовые Фабри-Перо лазеры:

Диапазон длин волн: 900 – 2000 нм

Непрерывная излучаемая рабочая мощность:   до 5 Вт

Импульсная излучаемая рабочая мощность:

до 1000 Вт при τ=100нс, до 10 Вт при τ=100пс

Типы корпусов: HHL, ТО-3, открытый теплоотвод


ОСНОВНЫЕ ПРЕИМУЩЕСТВА:

30-летний опыт разработки и изготовления полупроводниковых лазеровНаличие полного цикла по изготовлению полупроводниковых лазеров от эпитаксиального роста гетероструктур до готовых приборов

Гибкость производственного процесса – возможность разработки и изготовления

диодных лазеров с требуемыми параметрами


ОСНОВНЫЕ ПРИМЕНЕНИЯ:

-МЕТРОЛОГИЯ (локация, контроль волокна, дальнометрия)

-ТЕЛЕКОММУНИКАЦИИ 

-МЕДИЦИНА  (локация, контроль волокна, дальнометрия)

-НАКАЧКА ВОЛОКОННЫХ И ТВЕРДОТЕЛЬНЫХ ЛАЗЕРОВ


ОБОРУДОВАНИЕ:

Установка МОС-гидридной эпитаксии EMCORE GS/3100

Полный пост-ростовой комплекс изготовления лазерных гетероструктур, включающий:

Фотолитография

Химическое и плазмохимическое травление (установка “ALCATEL”)

Напыление диэлектрических покрытий

Напыление омических контактов

Установки монтажа и корпусирования лазерных диодов

Характеризация и тестирование лазерных диодов

Деградационные стенды