Основное направление деятельности:

Разработка, исследование и изготовление мощных полупроводниковых лазеров, излучающих в диапазоне длин волн 650 — 2000 нм.

Основное оборудование:

• Установка МОС-гидридной эпитаксии EMCORE GS/3100
• Установка МОС-гидридной эпитаксии EPIQUIP VP-50RP
• Полный пост-ростовой комплекс изготовления лазерных гетероструктур, включающий:
  • Фотолитография
  • Химическое и плазмохимическое (сухое) травление (установка “ALCATEL”)
  • Напыление диэлектрических покрытий
  • Напыление омических контактов
• Установки монтажа и корпусирования лазерных диодов.
• Характеризация и тестирование лазерных диодов
• Деградационные стенды

Основные преимущества:

• 30-летний опыт работы по разработке и изготовлению полупроводниковых лазеров
• Наличие полного цикла по изготовлению диодных лазеров — от роста гетероструктур до готовых приборов
• Гибкость производственного процесса — возможность разработки и изготовления диодных лазеров с требуемыми параметрами

Основные виды изготавливаемых лазерных диодов: Одномодовые Фабри-Перо лазеры: диапазон длин волн — 1000 — 2000 нм, непрерывная излучаемая рабочая мощность — до 200 мВт, типы корпусов: TO-18 (5,6 мм), SOT-148 (9 мм), открытый теплоотвод Многомодовые Фабри-Перо лазеры: диапазон длин волн — 900 — 2000 нм, непрерывная излучаемая рабочая мощность — до 5 Вт, импульсная излучаемая рабочая мощность — до 1000 Вт (при длине импульса 100 нс), до 10 Вт (при длине импульса 100 пс), типы корпусов: HHL, TO-3, открытый теплоотвод

Основные применения:

• Накачка волоконных и твердотельных лазеров
• Телекоммуникации
• Метрология (локация, контроль волокна, дальнометрия)
• Медицина (терапия, акупунктура, микрохирургия)
• Технологические процессы (резка и сварка металлов, гравировка)