Основное направление деятельности:
Разработка, исследование и изготовление мощных полупроводниковых лазеров, излучающих в диапазоне длин волн 650 — 2000 нм.
Основные преимущества:
• 30-летний опыт разработки и изготовления полупроводниковых лазеров
• Наличие полного цикла по изготовлению полупроводниковых лазеров —
– от эпитаксиального роста гетероструктур до готовых приборов
• Гибкость производственного процесса – возможность разработки и изготовления диодных лазеров с требуемыми параметрами
Виды изготавливаемых полупроводниковых лазеров:
Одномодовые Фабри-Перо лазеры:
Диапазон длин волн – 1000 – 2000 нм
Непрерывная излучаемая рабочая мощность – до 200 мВт
Типы корпусов: ТО-18 ( 5,6 мм), SOT-148 ( 9 мм), открытый теплоотвод.
Многомодовые Фабри-Перо лазеры:
Диапазон длин волн – 900 – 2000 нм
Непрерывная излучаемая рабочая мощность – до 5 Вт
Импульсная излучаемая рабочая мощность – до 1000 Вт при τ=100нс
до 10 Вт при τ=100пс
Типы корпусов: HHL, ТО-3, открытый теплоотвод.
Основное оборудование:
• Установка МОС-гидридной эпитаксии EMCORE GS/3100
• Полный пост-ростовой комплекс изготовления лазерных гетероструктур, включающий:
Фотолитография
Химическое и плазмохимическое травление (установка “ALCATEL”)
Напыление диэлектрических покрытий
Напыление омических контактов
• Установки монтажа и корпусирования лазерных диодов
• Характеризация и тестирование лазерных диодов
• Деградационные стенды
Основные применения:
Накачка волоконных и твердотельных лазеров
Телекоммуникации
Метрология (локация, контроль волокна, дальнометрия)
Медицина (хирургия, стоматология, флебология, фотодинамическая терапия)